一、产品关键词

纳米二氧化硅分散液分散机，纳米氧化硅分散液高速分散机，管线式研磨分散机，连续式研磨分散机，德国进口研磨分散机，改进型胶体磨研磨分散机

二、研(yan)磨分散机(ji)的设计

SGN研磨分(fen)散机(ji)(ji)设计*，能够延长易(yi)损件的(de)使(shi)用时间，因此尤其适合高硬度(du)和(he)高纯度(du)物料的(de)粉(fen)碎。可(ke)以(yi)一机(ji)(ji)多用，也可(ke)以(yi)单独使(shi)用，且粉(fen)碎粒度(du)范围广(guang)，成品粒径可(ke)以(yi)进行调整(zheng)。

三(san)、纳米二氧化硅的简介

二氧化(hua)(hua)硅水分散体在抛光应用(yong)(CMP)、纸业(喷墨)或在玻璃生(sheng)产中使用(yong)。出于经济和(he)实(shi)际(ji)应用(yong)原(yuan)因，在这些(xie)应用(yong)中使用(yong)具有高二氧化(hua)(hua)硅粉末(mo)含量的分散体是理想的。含(han)有火(huo)焰水解(jie)反应工艺生产的二氧化硅并且(qie)不含(han)稳定剂的水分散体仅在(zai)填(tian)充(chong)含(han)量低于30重量％时表现出可接受的稳定性(xing)。当填(tian)充(chong)含(han)量更高时，其在(zai)非(fei)常短(duan)的时间内发生凝结或(huo)沉(chen)降。

纳米二(er)氧(yang)(yang)化(hua)硅(gui)具有极小的(de)(de)粒径、较大的(de)(de)比表(biao)面(mian)积和(he)优良的(de)(de)化(hua)学性能(neng)，表(biao)现出(chu)良好的(de)(de)亲(qin)水性、补强性、增稠(chou)性、消光性和(he)防茹(ru)结(jie)性，因此广泛应用于橡胶、涂料(liao)、医(yi)药、油墨等领域。由于粉体的(de)(de)纳米二(er)氧(yang)(yang)化(hua)硅(gui)的(de)(de)表(biao)面(mian)亲(qin)水疏油，呈强极性，在有机介质中难以均匀分(fen)散，从而导致(zhi)材料(liao)性能(neng)下降。

现(xian)有技术中，通常是在纳米(mi)(mi)颗粒胶体物系中加(jia)入电解(jie)质、表面(mian)活(huo)性剂、聚(ju)电解(jie)质，使之吸附(fu)在颗粒表面(mian)是防止纳米(mi)(mi)颗粒团(tuan)聚(ju)生长的有效方法(fa)，这样可以提(ti)高二氧化硅分散液的稳(wen)定性。但(dan)总体说来，通过加(jia)入电解(jie)质、表面(mian)活(huo)性剂、聚(ju)电解(jie)质作(zuo)用针对分散相，并(bing)未实质与纳米(mi)(mi)二氧化硅颗粒结(jie)合，因(yin)此(ci)导(dao)致其制(zhi)备的分散液的分散性均不理想。

纳(na)米(mi)(mi)二氧化硅分(fen)散(san)到(dao)(dao)液体(ti)之后(hou)，依(yi)据不同的(de)分(fen)散(san)体(ti)系，其外观(guan)从白色乳状(zhuang)到(dao)(dao)无(wu)色透(tou)(tou)明。从检(jian)测上来(lai)看(kan)D90<100纳(na)米(mi)(mi)以(yi)下的(de)体(ti)系，在外观(guan)上都呈现视(shi)觉(jue)透(tou)(tou)明的(de)状(zhuang)态。纳(na)米(mi)(mi)的(de)分(fen)散(san)是(shi)一个世界性的(de)技(ji)术难题(ti)。可喜的(de)是(shi)目(mu)前出现了某(mou)些技(ji)术，使用某(mou)些纳(na)米(mi)(mi)颗粒可以(yi)解散(san)到(dao)(dao)单分(fen)散(san)的(de)状(zhuang)态，其中之一就有纳(na)米(mi)(mi)二氧化硅。

四、研(yan)磨(mo)分散机的结构

上海思峻的研磨分散机特别适(shi)合于需要研磨分散均(jun)质一步到位的物料。

纳米二氧化硅分散液分散机为立(li)式(shi)分(fen)(fen)体(ti)结构(gou)，精密的(de)(de)零部件配合运转(zhuan)平稳，运行(xing)噪音在73DB以下。同时采用(yong)德(de)国博格(ge)曼(man)双端面机(ji)械密封(feng)，并通冷(leng)媒对(dui)密封(feng)部分(fen)(fen)进行(xing)冷(leng)却，把泄露(lu)概率降到低，保证机(ji)器连续24小(xiao)时不停机(ji)运行(xing)。简单的(de)(de)说就是(shi)将(jiang)SGN/思峻胶体(ti)磨(mo)进行(xing)进一(yi)(yi)步的(de)(de)改(gai)良，将(jiang)单一(yi)(yi)的(de)(de)胶体(ti)磨(mo)磨(mo)头模块，改(gai)良成两级(ji)模块，加入了(le)一(yi)(yi)级(ji)分(fen)(fen)散盘。可根据物料要求进行(xing)更换（我(wo)们提(ti)供了(le)2P，2G，4M，6F，8SF等(deng)五种(zhong)乳(ru)化(hua)头供客户选择(ze)） SGN研磨(mo)分(fen)(fen)散机(ji)可以高速(su)研磨(mo)，分(fen)(fen)散，乳(ru)化(hua)，均质(zhi)等(deng)功(gong)能，设备转(zhuan)速(su)可达14000rpm，是(shi)目(mu)前普(pu)通设备转(zhuan)速(su)的(de)(de)4-5倍。

五、研磨分散机的特(te)点

1、 线速度(du)很(hen)高，剪(jian)切间(jian)隙非常(chang)小，当物料(liao)经(jing)过的(de)时候(hou)，形(xing)成的(de)摩擦力就比较剧烈(lie)，结果就是通常(chang)所说的(de)湿磨

2、 定转(zhuan)子被制成圆椎形，具有精细(xi)度(du)递升(sheng)的三级锯齿突起和(he)凹(ao)槽。

3、&nbsp;定子可以无限(xian)制的(de)(de)被调整到所(suo)需要的(de)(de)与转子之间的(de)(de)距(ju)离(li)

4、 在增(zeng)强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方(fang)向。

5、 高质量的(de)表(biao)面抛光(guang)和结构(gou)材料，可(ke)以(yi)满足(zu)不(bu)同行业的(de)多种要求。

设备其(qi)它参数:

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

六(liu)、从(cong)设备(bei)角(jiao)度来分析，影响(xiang)研磨分散(san)机效果因素有以(yi)下几(ji)点

1.研磨头的形式(shi)(shi)（批次(ci)式(shi)(shi)和(he)连(lian)(lian)续式(shi)(shi)）（连(lian)(lian)续式(shi)(shi)比批次(ci)式(shi)(shi)要好(hao)）

2.研磨头的剪切(qie)速(su)率，（越大效果越好(hao)）

3.研(yan)磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细(xi)齿、超细(xi)齿、越细(xi)齿效果越好）

4.物(wu)料在分散(san)墙体的停留(liu)时间(jian)、研磨分散(san)时间(jian)（可以看作同等电机，流量越(yue)小效(xiao)果(guo)越(yue)好）

5.循(xun)环次数（越(yue)多效果越(yue)好，到设备的期(qi)限就不能(neng)再好了。）

线速度的(de)计算：

剪切速(su)(su)率的定义是(shi)两表面(mian)之间液体层的相对速(su)(su)率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 ;(m)

由(you)上可知，剪切速(su)率(lv)取决于以下因(yin)素(su)：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
SGN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X &nbsp;D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

所(suo)以转速和分(fen)(fen)散头(tou)结构是(shi)影(ying)响分(fen)(fen)散的(de)一个(ge)zui重要因(yin)素，超高(gao)速分(fen)(fen)散均质(zhi)分(fen)(fen)散机的(de)高(gao)转速和剪切率对于获得(de)超细微(wei)悬浮液(ye)是(shi)zui重要的(de)。