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纳米氢氧化镁研磨分散机

简要描述:

纳米氢氧(yang)化镁(mei)研磨(mo)分散(san)机,SGN纳米氢氧(yang)化镁(mei)研磨(mo)式分散(san)机,是由(you)胶体磨(mo)+高剪切分散(san)机组(zu)成,形成一(yi)体化的设(she)备,先研磨(mo)后(hou)分散(san),避免物料团(tuan)聚。

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纳米氢氧化镁研磨分散机

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氢氧化镁是塑料(liao)、橡(xiang)胶制品优良(liang)的(de)阻燃剂(ji)。在环保方面作(zuo)为烟道(dao)气脱硫剂(ji),可(ke)代(dai)替烧碱和石灰作(zuo)为含酸(suan)废水的(de)中和剂(ji)。亦用作(zuo)油(you)品添加(jia)剂(ji),起到防腐和脱硫作(zuo)用。另(ling)外,还可(ke)用于电子(zi)行业、医(yi)药、砂糖的(de)精(jing)制,作(zuo)保温(wen)材料(liao)以及制造其他镁盐(yan)产


   在几乎不(bu)影(ying)响(xiang)使用强度的(de)(de)情况(kuang)下显著提(ti)高(gao)材料的(de)(de)阻燃、抑烟、防滴等性能,还可根据客户需要,在纳米(mi)氢氧化镁(mei)生(sheng)成同(tong)时(shi)采用适当的(de)(de)原位改性方法(fa),为阻燃氢氧化镁(mei)。

纳(na)米氢氧化镁一(yi)般作为改性剂(ji)分散到某物质当中(如橡胶),从而改性物料(liao)的特性,z大的用途便是作为助燃剂。改性的效果取决于纳米氢氧化镁的分散效果。纳米级的粉末分散到液体介质当中容易出现团聚现象,一般的分散设备无法解决这一难点,而SGN研磨式分散机可以很好的应对团聚的现象。
 

SGN纳米氢氧化镁分散机,是由胶体磨+高剪切分散机组成,形成一体化的设备,先研磨后分散,避免物料团聚。


GMD2000系列(lie)研磨分(fen)散(san)设备(bei)是SGN(上海(hai))公(gong)司经过研究刚(gang)刚(gang)研发出(chu)来的(de)一款新型产品(pin),该机(ji)特别适合于需要研磨分(fen)散(san)乳(ru)化(hua)(hua)均质(zhi)一步到(dao)位的(de)物料(liao)。我(wo)(wo)们(men)将(jiang)三(san)(san)级高剪切均质(zhi)乳(ru)化(hua)(hua)机(ji)进行(xing)改装,我(wo)(wo)们(men)将(jiang)三(san)(san)级变跟(gen)为(wei)一级,然(ran)后在乳(ru)化(hua)(hua)头(tou)上面加配了(le)胶(jiao)体(ti)磨磨头(tou),使物料(liao)可以(yi)先经过胶(jiao)体(ti)磨细化(hua)(hua)物料(liao),然(ran)后再经过乳(ru)化(hua)(hua)机(ji)将(jiang)物料(liao)分(fen)散(san)乳(ru)化(hua)(hua)均质(zhi)。胶(jiao)体(ti)磨可根据物料(liao)要求进行(xing)更换(huan)(我(wo)(wo)们(men)提(ti)供了(le)2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳(ru)化(hua)(hua)头(tou)供客(ke)户选择)


GMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。


*级(ji)由具有精细度递升的(de)三级(ji)锯齿突起和凹(ao)槽(cao)。定子可以(yi)(yi)无限制的(de)被调整到所需要的(de)与转子之间的(de)距离。在增强(qiang)的(de)流(liu)体湍流(liu)下,凹(ao)槽(cao)在每级(ji)都可以(yi)(yi)改变方(fang)向。


第二级由转定(ding)子(zi)组成。分散头(tou)的(de)(de)设计也很好(hao)地满足不(bu)(bu)同(tong)粘(zhan)度(du)(du)的(de)(de)物质以及(ji)颗粒(li)(li)粒(li)(li)径(jing)的(de)(de)需要(yao)。在(zai)线式(shi)的(de)(de)定(ding)子(zi)和转子(zi)(乳化(hua)头(tou))和批(pi)次(ci)式(shi)机器的(de)(de)工作头(tou)设计的(de)(de)不(bu)(bu)同(tong)主要(yao)是(shi)因为 在(zai)对输送(song)性(xing)的(de)(de)要(yao)求方面,特(te)别要(yao)引起注意的(de)(de)是(shi):在(zai)粗(cu)精(jing)度(du)(du)、中(zhong)等精(jing)度(du)(du)、细精(jing)度(du)(du)和其(qi)他(ta)一些工作头(tou)类型之(zhi)间的(de)(de)区别不(bu)(bu)光(guang)是(shi)转子(zi)齿的(de)(de)排列,还有一个很重(zhong)要(yao)的(de)(de)区别是(shi) 不(bu)(bu)同(tong)工作头(tou)的(de)(de)几(ji)何学特(te)征不(bu)(bu)一样。狭槽数、狭槽宽(kuan)度(du)(du)以及(ji)其(qi)他(ta)几(ji)何学特(te)征都能改变定(ding)子(zi)和转子(zi)工作头(tou)的(de)(de)不(bu)(bu)同(tong)功能。

 

GMD2000系列(lie)研磨分散设备选型(xing)表

 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速(su)度(du)

m/s

功率

kw

入/出口连接(jie)

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125


 

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