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聚酰亚胺薄膜研磨分散机

简要描述:

聚酰亚胺薄膜研(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)机(ji)(ji),上海思峻的(de)(de)研(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)机(ji)(ji)特别适合(he)于需要研(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)均质一步到位的(de)(de)物料。搅拌与(yu)研(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)一体,研(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)效(xiao)果(guo)好,能(neng)减少物料使用量,能(neng)降低生产成本。研(yan)(yan)磨(mo)(mo)(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)机(ji)(ji)为立式分(fen)(fen)(fen)体结构,精(jing)密(mi)的(de)(de)零部件配(pei)合(he)运转平稳,运行(xing)噪音在73DB以(yi)下。同时采用德国博格曼双端(duan)面机(ji)(ji)械密(mi)封(feng),并通冷媒对密(mi)封(feng)部分(fen)(fen)(fen)进行(xing)冷却,把(ba)泄露概率降到低,保证机(ji)(ji)器连续24小(xiao)时不停机(ji)(ji)运行(xing)。

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聚酰亚胺薄膜研磨分散机

聚酰亚胺薄膜研磨分散机

SGN研磨分散机设计*,能够(gou)延长易损件的使(shi)用(yong)时间,因此尤其适(shi)合高(gao)硬(ying)度(du)和高(gao)纯度(du)物(wu)料的粉碎(sui)。可(ke)以一机多(duo)用(yong),也可(ke)以单(dan)独使(shi)用(yong),且粉碎(sui)粒(li)度(du)范围广,成品(pin)粒(li)径(jing)可(ke)以进行调整。

聚酰亚胺(an)薄膜(mo)是(shi)一(yi)种(zhong)具有高(gao)(gao)(gao)强度、高(gao)(gao)(gao)韧性、耐(nai)磨损、耐(nai)高(gao)(gao)(gao)温、耐(nai)腐蚀等优异性能的(de)高(gao)(gao)(gao)分子(zi)材(cai)料(liao),广泛(fan)应用于电(dian)(dian)工电(dian)(dian)子(zi)行业,特别是(shi)在电(dian)(dian)子(zi)行业内更是(shi)各种(zhong)高(gao)(gao)(gao)档电(dian)(dian)子(zi)产品(pin)的(de)主要(yao)基础绝缘(yuan)材(cai)料(liao)。随着下(xia)游电(dian)(dian)子(zi)产品(pin)轻、薄、短、小及高(gao)(gao)(gao)可靠性设计的(de)发展趋势(shi),市场需求的(de)薄膜(mo)趋向于薄型(xing)化,同时对聚酰亚胺(an)薄膜(mo)的(de)物理、热、化学等性能以及色(se)差(cha)等表观质量(liang)均(jun)提出了更高(gao)(gao)(gao)的(de)要(yao)求。

目前制造聚(ju)(ju)酰(xian)亚(ya)胺(an)(an)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)的(de)有两种浸渍法(fa)和流(liu)延法(fa)。浸渍法(fa)就是首(shou)先将(jiang)(jiang)(jiang)0.1mm厚的(de)铝箔作为底(di)材,通过胶槽(cao),浸渍上(shang)聚(ju)(ju)酰(xian)胺(an)(an)酸(suan)溶液,然后(hou)进入上(shang)胶机(ji)的(de)烘(hong)(hong)箱烘(hong)(hong)焙(bei)干燥,即可(ke)在(zai)铝箔上(shang)形成聚(ju)(ju)酰(xian)胺(an)(an)酸(suan)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)。再将(jiang)(jiang)(jiang)该(gai)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)连同铝箔一道(dao)进入高温(wen)烘(hong)(hong)焙(bei)炉,由室温(wen)升到高温(wen)进行脱水亚(ya)胺(an)(an)化反应。再剥离、切边、收卷即可(ke)制得聚(ju)(ju)酰(xian)亚(ya)胺(an)(an)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)。流(liu)延方(fang)法(fa)是将(jiang)(jiang)(jiang)合成的(de)聚(ju)(ju)酰(xian)亚(ya)胺(an)(an)前驱体聚(ju)(ju)酰(xian)胺(an)(an)酸(suan)树(shu)脂溶液在(zai)流(liu)涎机(ji)上(shang)流(liu)涎得到具有自支撑性(xing)的(de)聚(ju)(ju)酰(xian)胺(an)(an)酸(suan)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo),再进行纵横(heng)方(fang)向拉伸、高温(wen)亚(ya)胺(an)(an)化,然后(hou)热定(ding)型处理、收卷。

聚酰亚胺薄膜研磨分散机上海思峻的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。搅拌与研磨一体,研磨效果好,能减少物料使用量,能降低生产成本。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

SGN高剪切研磨分散机的结构特点

SGN湿法研(yan)磨(mo)(mo)分(fen)(fen)散设备采用德国的(de)(de)(de)高(gao)速(su)研(yan)磨(mo)(mo)分(fen)(fen)散技术,通(tong)过(guo)超高(gao)转(zhuan)(zhuan)速(su)(高(gao)可达18000rpm)带动超高(gao)精密(mi)的(de)(de)(de)磨(mo)(mo)头定转(zhuan)(zhuan)子(通(tong)常配GM+8SF,定转(zhuan)(zhuan)子间隙(xi)在(zai)0.2-0.3之间)使晶种在(zai)设备的(de)(de)(de)高(gao)线速(su)度下形成湍流,在(zai)定转(zhuan)(zhuan)子间隙(xi)里不断的(de)(de)(de)撞击、破碎、研(yan)磨(mo)(mo)、分(fen)(fen)散、均质(zhi),从(cong)而得出超细的(de)(de)(de)颗粒(当然(ran)也需要(yao)合适的(de)(de)(de)分(fen)(fen)散剂做助剂)。

GMD2000系列研磨分散机为立(li)式(shi)分体结(jie)构,精密的零部件配合运(yun)转平稳(wen),运(yun)行噪音(yin)在73DB以下。同(tong)时(shi)采用德国博格曼双端(duan)面机械密封,并(bing)通冷媒对(dui)密封部分进(jin)行冷却,把泄露概(gai)率降到更低,保证机器连续24小时(shi)不停机运(yun)行。

高剪切研磨分散机选型表:

研磨分散(san)机流(liu)量*输出线速度功(gong)率入口/出口连接
类型l/hrpmm/skW 
GMSD 2000/430018,000504DN25/DN15
GMSD 2000/5100013,0005011DN40/DN32
GMSD 2000/1030009,2005022DN80/DN65
GMSD 2000/2080002,8505037DN80/DN65
GMSD 2000/30200001,4205055DN150/DN125
GMSD2000/50600001,10050110DN200/DN150
 

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