一、产品概述

纳米医药混悬剂超高速剪切研磨均质机，混悬剂均质机，纳米医药混悬液分散机，纳米高剪切分散机，纳米混悬液制备设备，纳米混悬液分散机，进口分散机，分散机厂家，分散机价格

二(er)、产品简(jian)介

纳米医药混悬剂超高速剪切研磨均质机设计*，能够延(yan)长易损(sun)件的使用(yong)时间，因此尤(you)其适合高硬度和高纯度物料的粉(fen)碎(sui)。可以(yi)(yi)一机多用(yong)，也可以(yi)(yi)单独使用(yong)，且粉(fen)碎(sui)粒(li)度范(fan)围广，成品粒(li)径可以(yi)(yi)进(jin)行调整。混悬(xuan)液(ye)是(shi)指：以(yi)固(gu)体(ti)颗(ke)粒分散(san)于分散(san)媒(mei)中，颗(ke)粒与分散(san)媒(mei)之(zhi)间有相界面(mian)，称为混悬(xuan)液(ye)。

混悬液的贮存存在物理(li)稳(wen)定(ding)性问题。混悬液中药物微粒分散(san)度大 ，微粒(li)与分散(san)介质之间存在(zai)(zai)着物(wu)理界面(mian)(mian)，是混悬(xuan)微粒(li)具有较高的(de)表面(mian)(mian)自由能，混悬(xuan)剂处于不稳定(ding)状态。疏水性(xing)(xing)药(yao)物(wu)的(de)混悬(xuan)剂比亲水性(xing)(xing)药(yao)物(wu)存在(zai)(zai)更大(da)(da)的(de)稳定(ding)性(xing)(xing)问题。若要制(zhi)得沉(chen)降缓慢的(de)混悬(xuan)液(ye)，应(ying)减少(shao)颗粒(li)的(de)大(da)(da)小，增(zeng)加分散(san)剂的(de)粘度(du)及(ji)减少(shao)固液(ye)间的(de)密度(du)差。

纳米医药混(hun)悬液(ye)分散机，高(gao)剪(jian)切条(tiao)件下(xia)的(de)混(hun)悬液(ye)，高(gao)速(su)通过工作腔定转(zhuan)(zhuan)子(zi)间隙，由于转(zhuan)(zhuan)子(zi)高(gao)速(su)转(zhuan)(zhuan)动，物料在定转(zhuan)(zhuan)子(zi)间隙内(nei)，高(gao)速(su)撞击、剪(jian)切等综合效应，将较大的(de)颗粒(li)粉(fen)碎(sui)成很小的(de)微粒(li)，它们的(de)直径(jing)在0.01-2μm范围内(nei)。这个(ge)纯(chun)粹的(de)物理过程(cheng)保(bao)持产品原有的(de)活性(xing)，与此同(tong)时，细(xi)化了(le)颗粒，获得相(xiang)对稳定的(de)混(hun)悬液。

三、纳米高剪(jian)切分散机的特点(dian)

1具有(you)非常高的(de)剪切(qie)速度和剪切(qie)力，粒径约为0.2-2微米可以确保(bao)高速(su)分散乳化的稳定性(xing)。

2该设备可以(yi)适用于(yu)各种分散乳化工艺，也可用于(yu)生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的分散混合。

3三级分散机(ji)由(you)定、转子(zi)(zi)系(xi)统所产(chan)生的剪切力使得溶质转移(yi)速(su)度(du)增加，从而使单一分子(zi)(zi)和(he)宏观分子(zi)(zi)媒介的分解加速(su)。

GMD2000系(xi)列(lie)研磨(mo)(mo)分(fen)散机的结构：研磨(mo)(mo)式(shi)分(fen)散机是(shi)由锥体磨(mo)(mo),分(fen)散机组合而成(cheng)的高科技产品(pin)。

第yi级由具(ju)有精细度递升的三级锯(ju)齿突起和凹槽(cao)。定(ding)子(zi)可以无限(xian)制(zhi)的被(bei)调整到所需(xu)要(yao)的与转子(zi)之间的距(ju)离(li)。在(zai)(zai)增强的流(liu)体(ti)湍流(liu)下(xia)，凹槽(cao)在(zai)(zai)每级都可以改变方(fang)向(xiang)。

第二级由转定子组成。分散头(tou)的设计(ji)也很(hen)好地满足不(bu)同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化(hua)头(tou)）和批次式机器的工作头(tou)设计(ji)的不(bu)同主要是因为 在对输(shu)送性的(de)(de)(de)要(yao)求方面，特别要(yao)引起注意的(de)(de)(de)是(shi)(shi)：在粗精(jing)度、中等精(jing)度、细精(jing)度和其他一些工作(zuo)头(tou)类型(xing)之间的(de)(de)(de)区(qu)别不光是(shi)(shi)转子(zi)齿(chi)的(de)(de)(de)排列，还有一个很重(zhong)要(yao)的(de)(de)(de)区(qu)别是(shi)(shi) 不(bu)同(tong)工作头(tou)的(de)几(ji)何(he)学特(te)(te)征不(bu)一样(yang)。狭槽(cao)数、狭槽(cao)宽度以及其他几(ji)何(he)学特(te)(te)征都能改变(bian)定子和转子工作头(tou)的(de)不(bu)同(tong)功(gong)能。根据(ju)以往的(de)惯例(li)，依(yi)据(ju)以前的(de)经验工作头(tou)来满 足一(yi)个(ge)具体的应(ying)(ying)用(yong)。在大多(duo)数情况下，机器(qi)的构造是和具体应(ying)(ying)用(yong)相匹(pi)配的，因而它对制造出zui终(zhong)产品是很重要。当(dang)不(bu)确定一种(zhong)工作头(tou)的(de)构造是否满足预期的(de)应(ying)用。

四、GMD2000系列研磨分散机设(she)备选型表
 

流量取决于设置(zhi)的间隙和(he)被处理物料的特性(xing)，可以被调节到zui大允许量的10%