GM2000/04高剪切胶体磨一(yi)(yi)种(zhong)粒径均一(yi)(yi)的(de)(de)(de)纳(na)米尖(jian)晶石(shi)铁(tie)氧(yang)(yang)体的(de)(de)(de)制(zhi)备(bei)(bei)方(fang)法，属(shu)(shu)(shu)于(yu)金属(shu)(shu)(shu)氧(yang)(yang)化物制(zhi)备(bei)(bei)技术领域。先(xian)在(zai)(zai)(zai)胶(jiao)体磨中(zhong)(zhong)(zhong)将(jiang)金属(shu)(shu)(shu)离子(zi)(zi)还原(yuan)成(cheng)高(gao)度(du)(du)分散的(de)(de)(de)纳(na)米金属(shu)(shu)(shu)粒子(zi)(zi)，然后将(jiang)含有纳(na)米金属(shu)(shu)(shu)粒子(zi)(zi)的(de)(de)(de)混合溶液转入(ru)到(dao)聚四氟乙烯内(nei)胆的(de)(de)(de)高(gao)压反(fan)(fan)应(ying)(ying)釜中(zhong)(zhong)(zhong)水(shui)热晶化，粒径为5至200纳(na)米的(de)(de)(de)尖(jian)晶石(shi)铁(tie)氧(yang)(yang)体粒子(zi)(zi)。其优点在(zai)(zai)(zai)于(yu)：胶(jiao)体磨的(de)(de)(de)高(gao)速(su)剪切作用(yong)(yong)使(shi)还原(yuan)得到(dao)的(de)(de)(de)金属(shu)(shu)(shu)粒子(zi)(zi)高(gao)度(du)(du)分散，从而在(zai)(zai)(zai)水(shui)热晶化过(guo)程(cheng)(cheng)中(zhong)(zhong)(zhong)可以(yi)得到(dao)粒径均一(yi)(yi)的(de)(de)(de)纳(na)米尖(jian)晶石(shi)铁(tie)氧(yang)(yang)体；反(fan)(fan)应(ying)(ying)在(zai)(zai)(zai)溶液中(zhong)(zhong)(zhong)进行，通过(guo)调(diao)节(jie)反(fan)(fan)应(ying)(ying)物浓(nong)度(du)(du)、反(fan)(fan)应(ying)(ying)温(wen)度(du)(du)、反(fan)(fan)应(ying)(ying)时(shi)间等参数可以(yi)实现纳(na)米粒子(zi)(zi)的(de)(de)(de)粒径大(da)小的(de)(de)(de)控制(zhi)；由于(yu)反(fan)(fan)应(ying)(ying)中(zhong)(zhong)(zhong)不需(xu)要高(gao)温(wen)焙烧过(guo)程(cheng)(cheng)，操(cao)作简单、制(zhi)备(bei)(bei)成(cheng)本和能耗低，有利于(yu)工业化应(ying)(ying)用(yong)(yong)。

GM2000/04高剪切胶体磨主要用途：

高剪切胶体磨适用于(yu)制药(yao)、食品(pin)、化(hua)工(gong)及其(qi)它(ta)行业的湿物料超(chao)微粉碎，能琪到各种半(ban)湿体及乳(ru)状液(ye)物质(zhi)德粉碎、乳(ru)化(hua)、均(jun)质(zhi)和(he)混合，主要(yao)技(ji)术指标(biao)已达到国外同类产品(pin)的水(shui)平。

运行原理：

高剪切胶体磨在(zai)(zai)电动机的(de)(de)高速转动下(xia)物(wu)料从(cong)进(jin)口(kou)处直接进(jin)入高剪(jian)(jian)切破碎(sui)(sui)(sui)区(qu)，通过一(yi)(yi)种(zhong)特殊粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)装置，将(jiang)流(liu)(liu)体(ti)中的(de)(de)一(yi)(yi)些(xie)大粉(fen)(fen)团、粘块、团块等(deng)大小颗(ke)粒(li)迅速破碎(sui)(sui)(sui)，然后(hou)吸入剪(jian)(jian)切粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)区(qu)，在(zai)(zai)十分(fen)狭窄的(de)(de)工作过道内由于转子刀片(pian)与定子刀片(pian)相对高速切割从(cong)而(er)产生(sheng)强烈摩擦(ca)及研(yan)磨(mo)(mo)破碎(sui)(sui)(sui)等(deng)。在(zai)(zai)机械运动和(he)离心力的(de)(de)作用下(xia)，将(jiang)已粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)细(xi)化的(de)(de)物(wu)料重新压入精磨(mo)(mo)区(qu)进(jin)行研(yan)磨(mo)(mo)破碎(sui)(sui)(sui)，精磨(mo)(mo)区(qu)分(fen)三(san)级，越向外延伸(shen)一(yi)(yi)级磨(mo)(mo)片(pian)精度(du)越高，齿(chi)距越小，线速度(du)越长，物(wu)料越磨(mo)(mo)越细(xi)，同时(shi)流(liu)(liu)体(ti)逐步向径向作曲线延伸(shen)。每(mei)到一(yi)(yi)级流(liu)(liu)体(ti)的(de)(de)方(fang)向速度(du)瞬间发生(sheng)变化，并且受到每(mei)分(fen)钟上(shang)千万次的(de)(de)高速剪(jian)(jian)切、强烈摩擦(ca)、挤压研(yan)磨(mo)(mo)、颗(ke)粒(li)粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)等(deng)，在(zai)(zai)经过三(san)个精磨(mo)(mo)区(qu)的(de)(de)上(shang)千万次的(de)(de)高速剪(jian)(jian)切、研(yan)磨(mo)(mo)粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)之后(hou)，从(cong)而(er)产生(sheng)液(ye)(ye)料分(fen)子链(lian)断裂、颗(ke)粒(li)粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)、液(ye)(ye)粒(li)撕破等(deng)功效使(shi)物(wu)料充分(fen)达到分(fen)散、粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)、乳化、均质(zhi)、细(xi)化的(de)(de)目的(de)(de)。液(ye)(ye)料的(de)(de)zui小细(xi)度(du)可(ke)达0.5um。

是专门为胶(jiao)体(ti)溶液生(sheng)产所设计，特(te)别是那(nei)些需要很好乳化和分散效果(guo)的胶(jiao)体(ti)生(sheng)产.的(de)定转子(zi)被制成圆椎(zhui)形，具有(you)精细度递升的(de)三级锯齿突起和凹(ao)槽。定子(zi)可(ke)以(yi)(yi)无限制的(de)被调整到所需要的(de)与转子(zi)之间的(de)距离。在增强的(de)流(liu)体(ti)湍流(liu)下，凹(ao)槽在每级都(dou)可(ke)以(yi)(yi)改(gai)变方向。高质量的(de)表面抛光和结(jie)构材料，可(ke)以(yi)(yi)满足(zu)不同行业的(de)多种(zhong)要求。GM2000胶体磨的线速度(du)很高，剪切间隙非(fei)常(chang)小，这样当(dang)物料经过的时候(hou)，形成的摩(mo)擦力就比(bi)较剧烈，结果就是通常(chang)所说的湿磨。